치주학회 SCIE 국제 학술지 상위 50% 진입

대한치주과학회(회장 구 영)가 발행하는 SCIE 국제학술지인 Journal of Periodontal & Implant Science (JPIS, 편집장 신승윤)가 Thomson Reuters사가 운영하는 등재학술지 영향력 지수(impact factor) 평가에서 올 해 1.847의 점수를 얻었다. 이 점수는 국내 치의학 SCIE 학술지 중 최고로 높은 점수다.

JPIS는 2014년 SCIE급 학술지로 처음 등재됐으며, 등재 첫 해의 영향력 지수는 1.145였으며, 지난해는 1.472였다. 특히 올해 JPIS는 치과계 SCIE 등재 국제학술지 전체 91개 중 40위를 차지하여 상위 50%(Q2) 이내의 학술지 그룹에 처음으로 진입했다.

학회지 발간에는 신승윤(경희대) 편집장, 박준범(서울성모병원) 편집이사, 윤정호(전북대), 박신영(서울대) 편집실행이사가 함께 참여 했다.
신승윤 편집장은 “PubMed 등재 10년, 그리고 SCIE 등재 6년만에 상위 50% 그룹에 진입한 것은 큰 의미가 있다.”고 평가했다. 이어 “상위 25% 학술지 그룹에 진입하기 위해 게재 논문의 질 관리 뿐 아니라 출판윤리 강화에 더욱 철저를 기하겠다.”고 밝혔다.

지난 1971년 대한치주학회지로 출발한 대한치주과학회의 공식학회지는 2010년부터는 현재와 같은 영문학회지로 학술지명이 바뀌면서 전문 영어로 발간되고 있으며 올해는 특히 학회 창립 60주년이 되는 해다.

한편, 지난 10년간 JPIS에 게재된 논문 중 해외 투고는 전체의 22%를 차지하고 있으며, 교신저자의 국적별로는 미국, 일본을 비롯한 전 세계 23개국에 이르는 등 명실상부한 국제학술지로서의 면모를 갖춰 나가고 있다.